2.1 碳酸鈣垢:
在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí)或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí)給出水PH值升高,那么碳酸鈣就有可能沉積出來(lái),應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉積的發(fā)生,以防止生長(zhǎng)后的晶體對(duì)膜表面產(chǎn)生操作,如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢,可以用降低給水PH至3-5之間運(yùn)行1-2小時(shí)的方法去除。
對(duì)沉淀時(shí)間更長(zhǎng)的碳酸鈣垢,則應(yīng)采用2%的檸檬酸清洗液(控制PH不小于4)進(jìn)行清洗。
注:應(yīng)確保任何清洗液的PH不要低于4,否則可能會(huì)對(duì)RO膜元件造成損害,特別在溫度較高時(shí)更應(yīng)注意,*高的PH值應(yīng)不大于10,可使用硫酸或鹽酸降低PH值,用氫氧化鈉來(lái)提高PH值。
2.2 硫酸鈣垢 :
清洗液2(參見表2)是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的*佳方法。
2.3 金屬氧化物垢:
可以使上面所述的去降碳酸鈣垢的方法,很容易地去除沉積下來(lái)的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。
2.4 硅垢:
對(duì)于不是與金屬氧化物或有機(jī)物共生的硅垢,一般只有通過(guò)專門的清洗方法,才能將他們?nèi)コ?,有關(guān)的詳細(xì)方法請(qǐng)與本公司聯(lián)系。
2.5 有積沉積物:
有機(jī)沉積物(如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液去除,為了防止再生繁殖,可使用本公司認(rèn)可殺菌液在系統(tǒng)中循環(huán)浸泡,一般需較長(zhǎng)時(shí)浸泡才能有效,如反滲透裝置停用超過(guò)三天時(shí),*好采用清毒處理。
2.6 清洗液的選用:
清洗
反滲透膜元件時(shí)建議采用表二所列的清洗液。確定清洗液前對(duì)污染物進(jìn)行化學(xué)分析是十分重要的,對(duì)分析結(jié)果的詳細(xì)分析比較,可保證選擇*佳的清洗劑及清洗方法。應(yīng)記錄每次清洗時(shí)清洗方法及獲得的清洗效果,為在特定給水條件下,找出*佳的清洗方法提供依據(jù)。
對(duì)于無(wú)機(jī)污染物建議使用1#清洗液,對(duì)硫酰鈣及有機(jī)污染物建議使用2#清洗液。對(duì)于嚴(yán)懲有機(jī)物污染建議使用3#清洗液。所有清洗液可以在溫度40℃下清洗60分鐘。所需用品量以每379升中加入量計(jì),配制清洗液時(shí)按比例加入藥品及清洗用水(反滲透淡水)并混合均勻。