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反滲透設(shè)備常見污染物及其去除方法有哪些

時間:2013-07-02 作者:admin 點擊:686次
常見污染物及其去除方法
 
 硫酸鈣垢
     清洗液2(見表2)是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的*佳方法。
 金屬氧化物垢
     可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法,很容易地去除沉積下來的氫氧化物(例如氫氧化鐵)。
  硅垢
    對于不是與金屬氧化物或有機物共生的硅垢,一般只有通過專門的清洗方法才能將他們?nèi)コ?/div>
碳酸鈣垢
    在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障而導致給水PH值升高,那么碳酸鈣就有可能沉積出來,應盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生,以防止生長的晶體對膜表面產(chǎn)生損傷,如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢,可以用降低給水PH至3.0~5.0之間運行1~2小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢,則應采用檸檬酸清洗液進行循環(huán)清洗或通宵浸泡。
     注:應確保任何清洗液的PH值不要低于2.0,否則可能會對RO膜元件造成損害,特別是在溫度較高時更應注意,*高的PH不應高于11.0??墒褂冒彼畞硖岣逷H,使用硫酸或鹽酸來降低PH值。
  有機沉積物
     有機沉積物(例如微生物粘泥或霉斑)可以使用清洗液3去除,為了防止再繁殖,可使用經(jīng)認可的殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡,一般需較長時間浸泡才能有效,如反滲透裝置
在正常壓力下如產(chǎn)品水流量降至正常值的10–15%。
為了維持正常的產(chǎn)品水流量,經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加了10–15%。
產(chǎn)品水質(zhì)降低10–15%;鹽透過率增加10–15%。
使用壓力增加10–15%。
RO各段間的壓差增加明顯(也許沒有儀表來監(jiān)測這一跡象)。
停用超過三天時,*好采用消毒處理,請與海德能公司會商以確定適宜的殺菌劑。
清洗液
    清洗反滲透膜元件時建議采用表2所列的清洗液。確定清洗液前對污染物進行化學分析是十分重要的,對分析結(jié)果的詳細分析比較,可保證選擇*佳的清洗劑及清洗方法,應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果,為在特定給水條件下,找出*佳的清洗方法提供依據(jù)。
   對于無機污染物建議使用清洗液1。對于硫酸鈣及有機物建議使用清洗液2。對于嚴重有機物污染建議使用清洗液3。所有清洗液可以在*高溫度為華氏104度(40℃)下清洗60分鐘,所需藥品量以每100加侖(379升)中加入量計,配制清洗液時按比例加入藥品及清洗用水,應采用不含游離氯的反滲透產(chǎn)品水來配制溶液并混合均勻。
要注意以下幾個問題
1.在任何情況下不要讓帶有游離氯的水與復合膜元件接觸,如果發(fā)生這種接觸,將會造成膜元件性能下降,而且再也無法恢復其性能,在管路或設(shè)備殺菌之后,應確保送反滲透膜元件的給水中無游離氯存在。在無法確定是否有游離氯時,應通過化驗來驗證。應使用亞硫酸氫鈉溶液來中和殘余氯,并確保足夠的接觸時間以保證反應完全。
2.在反滲透膜元件擔保期內(nèi),建議每次反滲透膜清洗應在與協(xié)商后進行,至少在*次清洗時,海德能公司的現(xiàn)場服務人員應在現(xiàn)場。
3在清洗溶液中應避免使用陽離子表面活性劑,因為如果使用可能會造成膜元件的不可逆轉(zhuǎn)的污染。
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